中華人民共和國國家標(biāo)
電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 GB/T 2423. 17-93
試驗(yàn)Ka：鹽霧試驗(yàn)方法 代替GB 242317-81
Basic environmtal testing procedures for
Electric and electronic products
Test Ka:Salt mist
本標(biāo)準(zhǔn)等效采用IEC 68-2-11《基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 試驗(yàn)Ka：鹽霧試驗(yàn)方法》（1981年第三版）。
1 主題內(nèi)容與適用范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)的鹽霧試驗(yàn)方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于考核材料及其防護(hù)層的抗鹽霧腐蝕的能力，以及相似防護(hù)層的工藝質(zhì)量比較，也可以用來考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕的能力。
本標(biāo)準(zhǔn)不適用作為通用的腐蝕試驗(yàn)方法。
2 引用標(biāo)準(zhǔn)
GB 2421電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 總則
GB 2422電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 名詞術(shù)語
GB2424. 10 電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 大氣腐蝕加速試驗(yàn)的通用導(dǎo)則
3 對試驗(yàn)設(shè)備的要求
3. 1 用于制造試驗(yàn)設(shè)備的材料必須耐鹽霧蝕和不影響試驗(yàn)結(jié)果。
3. 2 試驗(yàn)設(shè)備中工作空間的條件應(yīng)該保持在本標(biāo)準(zhǔn)第5章規(guī)定的限度之內(nèi)。
3. 3 有足夠大的容積, 并能提供均勻的試驗(yàn)條件, 且試驗(yàn)時(shí)這些條件不受試驗(yàn)樣品的影響。
3. 4 鹽霧不得直接噴射到試驗(yàn)樣品上。
3. 5 試驗(yàn)設(shè)備工作空間內(nèi)頂部和內(nèi)壁, 以及其他部位的冷凝液不得滴落在試驗(yàn)樣品上
3. 6 試驗(yàn)設(shè)備內(nèi)外氣壓必須平衡。
4 試驗(yàn)溶液
4. 1 鹽溶液采用氯化鈉（化學(xué)純、分析純）和蒸餾水或去離子水配制, 其濃度為（5±0. 1）%（質(zhì)量百分比）。霧化后的收集液, 除擋板擋回部分外, 不提重復(fù)使用。
4. 2 霧化前的鹽溶液的PH值在6 . 5～7 . 2（35±2℃）之間。配制協(xié)溶液時(shí), 可采用化學(xué)純的稀鹽酸或氫氧化鈉的溶液來調(diào)整PH值, 但濃度仍須符合第三者條的規(guī)定。
5 試驗(yàn)條件
5. 1 試驗(yàn)設(shè)備的工作試驗(yàn)空間內(nèi)溫度為35±2℃。
5. 2 在工作空間內(nèi)任一位置, 用面積為80㎝²的漏斗收集連續(xù)霧化16h的鹽霧沉降量, 平均每小時(shí)
國家技術(shù)監(jiān)督局1993-11-19批準(zhǔn) 1994-07-01實(shí)施
GB/T 2423. 17－93
收集到1. 0～2. 0mL的溶液。
5. 3 本標(biāo)準(zhǔn)采用連續(xù)霧化, 推薦的試驗(yàn)持續(xù)時(shí)間為16、 24、 48、 96、 168、 672h
5. 4 霧化時(shí)必須防止油污、塵埃等雜質(zhì)和噴射空氣的溫、濕度影響工作空間的試驗(yàn)條件。
6 試驗(yàn)程序
6. 1 初始檢測
試驗(yàn)前, 試驗(yàn)樣品必須進(jìn)行外觀檢查, 如果需要可按有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行其他項(xiàng)目的性能測定。試驗(yàn)樣品表面必須干凈、無油污、無臨時(shí)性的保護(hù)層和其他弊病。
6. 2 預(yù)處理
按有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定, 對即將試驗(yàn)的樣品進(jìn)行清潔, 所用清潔方法應(yīng)不影響鹽霧對試驗(yàn)樣品的作用, 試驗(yàn)前應(yīng)盡量避免用手直接觸摸試驗(yàn)樣品表面。
6. 3. 1 試驗(yàn)樣品放置由有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定, 一般按其正常使用狀態(tài)放置（包括外罩等）; 平板試驗(yàn)樣品需使受試面與垂直方向成30º角。
6. 3. 2 試驗(yàn)樣品為得相互接觸, 它們的間隔距離應(yīng)是不影響鹽霧能自由降落在試驗(yàn)樣品上, 以及一試驗(yàn)樣品上的鹽溶液不得滴落在其他試驗(yàn)樣品上。
6. 3. 3 試驗(yàn)樣品放置后按第5章規(guī)定的試驗(yàn)條件進(jìn)行條件試驗(yàn), 試驗(yàn)持續(xù)時(shí)間按有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定從第5.3條的規(guī)定中選取。
6. 4 恢復(fù)
試驗(yàn)結(jié)束后, 用流動(dòng)水輕輕洗去試驗(yàn)樣品表面鹽沉積物, 再在蒸餾水中漂洗, 洗滌水溫不得超過35℃,然后在標(biāo)準(zhǔn)的恢復(fù)大氣條件下恢復(fù)1～2h, 或按有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的其他恢復(fù)條件和恢復(fù)時(shí)間。
6. 5 zui后檢測
恢復(fù)后的試驗(yàn)樣品應(yīng)及時(shí)進(jìn)行檢查、測試并記錄結(jié)果。檢查項(xiàng)目、試驗(yàn)結(jié)果評定和合格要求均由有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定。
7 引用本標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)給出的細(xì)則
有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)采用本用試驗(yàn)方法時(shí), 應(yīng)對下列項(xiàng)目作出具體規(guī)定:
a. 初始檢測（見本標(biāo)準(zhǔn)第6. 1條）;
b. 預(yù)處理（見本標(biāo)準(zhǔn)第6. 2條）
c. 安裝細(xì)節(jié)（見本標(biāo)準(zhǔn)第6. 3條）
d. 試驗(yàn)持續(xù)時(shí)間（見本標(biāo)準(zhǔn)5. 3條）
e. 恢復(fù)（見本標(biāo)準(zhǔn)6. 4條）
f. zui后檢測（見本標(biāo)準(zhǔn)6. 5條）
附加說明：
本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國機(jī)械工業(yè)部提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)由機(jī)械工業(yè)部廣州電器科學(xué)研究所負(fù)責(zé)起草。由電子工業(yè)部第五研究所、中國船舶工業(yè)總公司第七研究院標(biāo)準(zhǔn)化室、航空航天工業(yè)*所、機(jī)械工業(yè)部上海電器科學(xué)研究所共同參加起草。
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